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发明名称
偏光薄膜之制造方法、偏光板及光学层合体
摘要
本发明提供一种极少色之深浅不匀、膜厚均匀的偏光薄膜之制造方法。;其特征为在使聚乙烯醇系薄膜依顺序进行膨润处理、染色处理、硼酸处理、水洗处理及乾燥处理等处理;于该处理步骤中之至少两个步骤,在输送薄膜的两个钳紧滚筒之间赋予转速差;使薄膜进行拉伸之制造偏光薄膜的方法中,在硼酸处理步骤使薄膜浸渍于硼酸溶液之际,以非接触滚筒之状态浸渍,自浸渍薄膜至在硼酸溶液中初次接触滚筒止之时间为0.4~5秒。
申请公布号
TWI459053
申请公布日期
2014.11.01
申请号
TW094146447
申请日期
2005.12.26
申请人
住友化学股份有限公司 日本
发明人
网谷圭二;松元浩二
分类号
G02B5/30
主分类号
G02B5/30
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种偏光薄膜之制造方法,其为在使聚乙烯醇系薄膜依膨润处理、染色处理、硼酸处理、水洗处理及乾燥处理之顺序进行处理,于该处理步骤中之至少两个处理步骤,在输送薄膜之两个钳紧滚筒之间赋予转速差;使薄膜进行拉伸制造偏光薄膜之方法,其特征系在硼酸处理步骤使薄膜浸渍于硼酸溶液之际,以非接触滚筒之状态浸渍,自浸渍薄膜至在硼酸溶液中初次接触滚筒止之时间为0.4~5秒。
地址
日本
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