基板处理装置;APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

摘要

本发明揭示一种基板处理装置。该基板处理设备包含:一处理腔室,其具有一内部空间,其中容纳从该外界送入的一基板,并且执行与该基板相关的一处理;电热线加热器,其位于该处理腔室的一侧壁内,该电热线加热器环绕该内部空间,将该基板加热;以及一冷却管,其中从该外界供应一冷却剂,该冷却管沿着该处理腔室的该侧壁位于该等电热线加热器之间。