剥离光阻用组成物及其使用方法;COMPOSITION FOR STRIPPING PHOTO-RESIST AND USE METHOD THEREOF

摘要

一种剥离光阻用组成物包含胺系化合物、醇系化合物、四级铵盐化合物、有机溶剂以及水。该胺系化合物包括至少一种由下列群组所组成的三级胺系化合物:式(I)所示的氮杂环化合物及具有至少二个三级胺的链状多胺化合物。该醇系化合物包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物:糖系化合物及含炔基的醇系化合物。;于式(I)中,A及B系如说明书与申请专利范围中所定义者。该剥离光阻用组成物可防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上,且具有大洗净容量。