发明名称 |
用于极紫外线光源之靶材;TARGET FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE |
摘要 |
用于形成一靶材及生成极紫外线光之技术系包括将一初始靶材材料释放朝向一靶材区位,靶材材料包括一当转换至电浆时发射极紫外线(EUV)光之材料;将一第一经放大光束导引朝向初始靶材材料,第一经放大光束具有足以从初始靶材材料形成靶材材料块件(pieces)的一集合(collection)之一能量,各块件系小于初始靶材材料且被空间性分布遍及一半球形容积;将一第二经放大光束导引朝向该等块件之集合以将靶材材料块件转换至发射EUV光之电浆。 |
申请公布号 |
TW201441770 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
申请号 |
TW103108136 |
申请日期 |
2014.03.10 |
申请人 |
希玛有限责任公司 |
发明人 |
陶业争;拉法斯 罗伯特J;佛蒙柯维 伊格尔V;布朗 丹尼尔J;葛里奇 丹尼尔J |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>恽轶群</name><name>陈文郎</name> |
主权项 |
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地址 |
美国 |