发明名称 切割黏晶膜及切割方法
摘要 本发明系关于一种切割黏晶膜,其使用于任何的半导体制程中皆具有优异的可加工性以及信赖性,如黏着性、隙缝填充性、以及取出便利性,且可防止切割步骤中毛边以及污染的情形发生。此外,本发明亦关于一种切割方法。尤其,本发明之特征在于,将切割黏晶膜之拉伸性能最佳化,或对黏晶膜部分进行切割并经由延展步骤将其分离。因此,本发明可调整薄膜的物理特性,使切割步骤中毛边的产生以及晶片受污染的状况受到控制,使不受特定限制情形下具有最佳的黏着特性、取出特性、以及填缝性。因此,封装步骤中之可加工性以及信赖性得以良好地维持。
申请公布号 TWI459454 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW097146397 申请日期 2008.11.28
申请人 LG化学公司 南韩 发明人 洪宗完;金章淳;朴孝淳;柳贤智;高东汉;朱孝叔
分类号 H01L21/304;H01L21/30 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 一种切割方法,系使用一切割黏晶膜,该切割黏晶膜系包括一切割膜,具有一基膜、以及一形成于该基膜上之压敏胶黏层;以及一形成于该切割膜上之黏晶膜,该方法包括:一第一步骤,系将一晶圆黏着于该黏晶膜上;一第二步骤,系切割至该黏晶膜非完全切断之深度;以及一第三步骤,系将切割黏晶膜延展以将黏晶膜完全分离。
地址 南韩
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