| 摘要 |
本发明提供一种负型图案形成方法,系将光阻组成物涂布于基板,进行加热处理以制成光阻膜,对于光阻膜以高能射线曝光,施以加热处理后,以含有有机溶剂之显影液使光阻膜之未曝光部分予以选择性地溶解;该光阻组成物含有:具酸不稳定基且因酸作用使极性改变之高分子化合物[A]、式(1)之光酸产生剂[B]、及有机溶剂[C];R1-COOC(CF3)2-CH2SO3- R2R3R4S+ (1) (R1为1价烃基、R2、R3及R4为烷基、烯基、侧氧基烷基、芳基、芳烷基或芳基侧氧基烷基,或R2、R3及R4中的任2个以上也可彼此键结并与式中之硫原子一起形成环)。依照本发明,能减小微细之沟图案之边缘粗糙度,且能抑制逆推拔形状并减轻图案倒塌。 |
