发明名称 | 一种雷射退火方法;A LASER ANNEALING METHOD | ||
摘要 | 本发明公开了一种雷射退火方法,包括:由一雷射源提供一雷射光束;对所述雷射光束进行反射, 并予以会聚;使用该雷射光束对一基板表面的非晶矽区域进行快速扫描;其中,所述雷射光束以脉冲序列组的方式产生,所述脉冲序列组包括M组脉冲序列,每一组所述脉冲序列包括N个脉冲,其中,M和N均为大于1的自然数。本发明可以减少非晶矽氧化可能,改善矽基片电性,并且由于进行雷射退火的机台不再需要设置内部腔体,可以减少机台重量,机台保养上也变得较为容易。 | ||
申请公布号 | TW201440937 | 申请公布日期 | 2014.11.01 |
申请号 | TW103101685 | 申请日期 | 2014.01.16 |
申请人 | 上海和辉光电有限公司 | 发明人 | 江昌翰;叶昱均;锺尚骅 |
分类号 | B23K26/352(2014.01);H01L21/268(2006.01) | 主分类号 | B23K26/352(2014.01) |
代理机构 | 代理人 | <name>叶大慧</name> | |
主权项 | |||
地址 | 中国 |