发明名称 一种雷射退火方法;A LASER ANNEALING METHOD
摘要 本发明公开了一种雷射退火方法,包括:由一雷射源提供一雷射光束;对所述雷射光束进行反射, 并予以会聚;使用该雷射光束对一基板表面的非晶矽区域进行快速扫描;其中,所述雷射光束以脉冲序列组的方式产生,所述脉冲序列组包括M组脉冲序列,每一组所述脉冲序列包括N个脉冲,其中,M和N均为大于1的自然数。本发明可以减少非晶矽氧化可能,改善矽基片电性,并且由于进行雷射退火的机台不再需要设置内部腔体,可以减少机台重量,机台保养上也变得较为容易。
申请公布号 TW201440937 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW103101685 申请日期 2014.01.16
申请人 上海和辉光电有限公司 发明人 江昌翰;叶昱均;锺尚骅
分类号 B23K26/352(2014.01);H01L21/268(2006.01) 主分类号 B23K26/352(2014.01)
代理机构 代理人 <name>叶大慧</name>
主权项
地址 中国