含苯乙烯结构之自行组织化膜之下层膜形成组成物;STYRENE STRUCTURE-CONTAINING UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR SELF-ASSEMBLED FILM

摘要

本发明系提供自行组织化膜之下层所用的下层膜形成组成物。本发明系一种自行组织化膜之下层膜形成组成物，其系含有仅由来自可被取代之苯乙烯的单位结构、与来自含有交联形成基之化合物的单位结构所成的聚合物，且该聚合物之全单位结构中，来自苯乙烯的单位结构为60~95莫耳%、来自含有交联形成基之化合物的单位结构为5~40莫耳%之比例所成的该聚合物。其中交联形成基为羟基、环氧基、被保护的羟基、或被保护的羧基。含有交联形成基之化合物为羟基乙基甲基丙烯酸酯、羟基乙基丙烯酸酯、羟基丙基甲基丙烯酸酯、羟基丙基丙烯酸酯、羟基苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、缩水甘油基甲基丙烯酸酯、或缩水甘油基丙烯酸酯。