发明名称 |
基板处理方法及基板处理装置 |
摘要 |
本发明系向基板供给疏水化剂,使该基板之表面疏水化。其后,使基板乾燥。处理对象之基板自疏水化直至乾燥为止系保持为不接触水之状态。藉此,可抑制或防止形成于基板表面之图案之破坏。 |
申请公布号 |
TWI459461 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
申请号 |
TW100129708 |
申请日期 |
2011.08.19 |
申请人 |
大日本网屏制造股份有限公司 日本 |
发明人 |
基村雅洋;小路丸友则;江本哲也;奥谷学;尾辻正幸 |
分类号 |
H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/306 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
一种基板处理方法,其包含:疏水化步骤,其系将疏水化剂之液体供给至基板而使上述基板之表面疏水化;乾燥前淋洗步骤,其系于上述疏水化步骤进行之后,将能够溶解上述疏水化剂、且表面张力小于水之溶剂供给至上述基板;乾燥步骤,其系于上述乾燥前淋洗步骤进行之后,使上述基板乾燥;及自上述疏水化步骤结束直至上述乾燥步骤结束为止,将上述基板保持为不接触水之状态的步骤。 |
地址 |
日本 |