发明名称 具有循环泵之流体喷出总成
摘要 一流体喷出总成包括于一第一基体中形成之一流体槽以及于放置于一第二基体顶部之一腔室层中形成的一通道。该第二基体之底部表面附着在该第一基体之顶部表面,而流体馈送孔于该流体槽与该通道之间形成。一流体喷出元件位于该通道之一第一端而一抽泵元件位于该通道之一第二端以便将流体水平循环经过该通道以及垂直循环经过该等流体馈送孔。
申请公布号 TWI458645 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW100122644 申请日期 2011.06.28
申请人 惠普研发公司 美国 发明人 哥耶迪诺夫 亚历山大;托尼亚尼 艾力克D;梅森杰 罗伯特
分类号 B41J2/175;B41J2/18;B41J2/14 主分类号 B41J2/175
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种流体喷出总成,包含有:一于一第一基体中形成之流体槽;一设置于一第二基体顶部之一腔室层,其中该第二基体之一底部表面附着在该第一基体之一顶部表面;一于该腔室层上方形成的喷嘴平板;一在该喷嘴平板与该第二基体间之该腔室层中形成的通道;于该流体槽与该通道间形成之流体馈送孔;一位于该通道之一第一端的流体喷出元件;以及一位于该通道之一第二端的抽泵元件,其于该通道内该第二基体上形成,用来让流体循环而水平地经过该通道以及垂直地经过该等流体馈送孔。
地址 美国