PROCEDE DE LITHOGRAPHIE A OPTIMISATION COMBINEE DE L'ENERGIE RAYONNEE ET DE LA GEOMETRIE APPLICABLE SUR DES FORMES COMPLEXES

摘要

Un procédé de génération de données relatives à l'écriture d'un motif par rayonnement électronique comporte initialement la fourniture (S1) d'un motif à réaliser qui forme un motif de travail avec une seule enveloppe externe. Le motif de travail est fracturé (S3) en un jeu de dessins élémentaires comportant chacun une seule enveloppe externe. Un jeu de conditions d'insolation est défini (S4) pour modéliser chaque dessin élémentaire. Un motif irradié de simulation (S5) est calculé à partir des jeux de conditions d'insolation associés aux jeux de dessins élémentaires. Le motif de simulation est comparé (S6) au motif à réaliser. Si le motif de simulation n'est pas représentatif du motif à réaliser (1), des vecteurs de décalage sont calculés. Les vecteurs de décalage sont représentatifs des différents écarts existant entre les deux motifs. L'enveloppe externe du motif à réaliser est modifiée à partir de vecteurs de déplacement déterminés à partir des vecteurs de décalage. Une nouvelle itération est réalisée.