Licht absorbierende Schicht und die Schicht enthaltendes Schichtsystem, Verfahren zur dessen Herstellung und dafür geeignetes Sputtertarget

摘要

Licht absorbierende Schichtsysteme werden für verschiedene Anwendungen eingesetzt, wie etwa für solarthermische Anwendungen oder sogenannte „black matrix“-Schichten in Verbindung mit Flüssigkristall-Displays. Die Schicht beziehungsweise die Schichten sollen demnach eine hohe Absorption und geringe Reflektion im sichtbaren Spektralbereich zeigen und sie sollen sich ohne das Entstehen giftiger Substanzen und ohne Partikelrückstände unter Einsatz einfacher verdünnter Säuren ätzen lassen. Um dies zu gewährleisten, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Licht absorbierende Schicht auf Zink- und Molybdänoxid mit unterstöchiometrischem Gehalt an Sauerstoff basiert, wobei der Anteil an Molybdänoxid – berechnet als Anteil von metallischem Molybdän in ZnO – im Bereich zwischen 25 und 50 Gew.-% liegt, wobei die Schicht bei einer Wellenlänge von 550 nm einen Absorptionsindex kappa von mehr als 0,7 aufweist.