| 摘要 |
Verfahren zum Ausbilden eines optischen Elements mit einer Mehrzahl von als erhabene Abschnitte oder Vertiefungen ausgebildeten optischen Strukturen (21; 23; 25), mit den folgenden Schritten: Bereitstellen eines Formwerkzeugs (1), auf dessen Oberfläche eine Mehrzahl von Abformbereichen (3; 4) zum Abformen der optischen Strukturen auf ein Substrat (10) ausgebildet sind; Bereitstellen des Substrats (10), wobei auf der dem Formwerkzeug (1) zugewandten Oberfläche des Substrats (10) eine Mehrzahl von vorgeformten Bereichen (16; 17) ausgebildet sind, die einem jeweiligen Abformbereich (3, 4) des Formwerkzeugs (1) gegenüber liegen; Erwärmen des Substrats (10) auf eine Temperatur oberhalb einer Übergangstemperatur eines Materials des Substrats (10); und Gegeneinanderdrücken des Formwerkzeugs (1) und des Substrats (10), um das optische Element (20) mit der Mehrzahl von optischen Strukturen (21; 23; 25) auszubilden, deren Form durch die Form des jeweils zugeordneten Abformbereichs (3; 4) vorgegeben ist; wobei die Abformbereiche (3; 4) auf der Oberfläche des Formwerkzeugs (1) als Vertiefungen oder erhabene Abschnitte mit einem Profil ausgebildet sind, das korrespondierend zu dem Profil der auszubildenden optischen Strukturen ausgebildet ist, die vorgeformten Bereiche (16; 17) auf der Oberfläche des Substrats (10) als erhabene Abschnitte oder Vertiefungen ausgebildet sind, beim Gegeneinanderdrücken des Formwerkzeugs (1) und des Substrats (10) der jeweilige vorgeformte Bereich (16; 17) des Substrats (10) mit dem zugeordneten Abformbereich (3; 4) zunächst in einem zentralen Bereich (11) in Anlage gelangt, sodass sich ein Spalt (6), der zwischen einer Oberfläche des jeweiligen vorgeformten Bereichs (16; 17) und einer Oberfläche des zugeordneten Abformbereichs (3; 4) ausgebildet ist, von dem zentralen Bereich (11) zu einem Rand (2, 14) des jeweiligen vorgeformten Bereichs (16; 17) hin erstreckt und verbreitert, das Substrat (10) und das Formwerkzeug (1) mit gegenüber liegenden Grundflächen bereitgestellt werden, die einen geringen Umformgrad bedingen, und das Substrat (10) bei dem Ausbilden des optischen Elements (20) durch das Gegeneinanderdrücken des Formwerkzeugs (1) und des Substrats (10) quer zu einer Richtung einer Druckbeaufschlagung im Wesentlichen nicht verbreitert wird. |
