一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法

摘要

本发明公开了一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法，包括如下步骤：清洗基片；在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜；在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干；在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干；对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影和烘干；在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属；将蒸发第一层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离；在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第二层金属；将蒸发第二层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离；在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；去除基片：将基片和聚酰亚胺膜剥离。本发明实现频带的拓展。

主权项

一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法，包括如下步骤：（1）清洗基片；（2）在所述基板上涂覆聚酰亚胺膜；采用旋转涂法甩粘度为3600厘泊的聚酰亚胺溶液并进行固化，得到厚度为10μm的聚酰亚胺膜；（3）在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干；（4）在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干；（5）对光刻胶进行曝光；（6）对曝光后的光刻胶进行显影和烘干；（7）在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属；（8）将蒸发第一层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离去除剩下的光刻胶AZ1500与所述光刻胶AZ1500上的第一层金属，然后用显影液去除剩余的光刻胶LOR；（9）在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；（10）重复步骤（3）至步骤（6）；（11）在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第二层金属；（12）将蒸发第二层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离去除剩下的光刻胶AZ1500与所述光刻胶AZ1500上的第二层金属，然后用显影液去除剩余的光刻胶LOR；（13）在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；（14）去除基片：将基片和聚酰亚胺膜剥离；所述所述第一层金属和第二层金属均包括厚度为20nm的钛和厚度为200nm的金薄膜。