发明名称 |
显示装置及其制造方法 |
摘要 |
在有源矩阵基板的显示区域设置有:包括感光性有机绝缘膜的层间绝缘膜;与层间绝缘膜不同的绝缘膜;和形成在层间绝缘膜的表面的多个像素电极。在有源矩阵基板的非显示区域形成有从显示区域引出的引出配线。在密封部件的形成区域,上述层间绝缘膜被去除,并且以覆盖引出配线的一部分的方式设置有绝缘膜,在绝缘膜的表面直接形成有密封部件。 |
申请公布号 |
CN103314403B |
申请公布日期 |
2014.10.29 |
申请号 |
CN201280004999.6 |
申请日期 |
2012.01.25 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
原义仁;中田幸伸 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1339(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种显示装置的制造方法,其为通过将有源矩阵基板与对置基板隔着框状的密封部件贴合来制造显示装置的方法,其特征在于,具有:使用第一掩模在成为有源矩阵基板的基板上形成规定图案的第一导电膜的工序;在所述成为有源矩阵基板的基板上形成覆盖所述第一导电膜的第一绝缘膜的工序;使用第二掩模在所述第一绝缘膜上形成规定图案的半导体层的工序;使用第三掩模在所述第一绝缘膜上形成规定图案的第二导电膜的工序;使用第四掩模,以覆盖形成有所述半导体层和所述第二导电膜的所述第一绝缘膜的一部分的方式,形成包括规定图案的感光性有机绝缘膜的层间绝缘膜的工序;以所述层间绝缘膜为掩模对所述第一绝缘膜的一部分进行蚀刻的工序;和使用第五掩模在所述层间绝缘膜上形成规定图案的透明电极的工序,在形成所述第一导电膜的工序中,在形成所述密封部件的区域形成所述第一导电膜的一部分,在形成所述半导体层的工序中,在形成所述密封部件的区域形成所述半导体层的一部分,在形成所述层间绝缘膜的工序中,在形成所述密封部件的区域,从所述半导体层上去除所述层间绝缘膜,在对所述第一绝缘膜的一部分进行蚀刻的工序中,以所述半导体层为掩模对形成所述密封部件的区域的所述第一绝缘膜进行蚀刻,在形成所述透明电极的工序中,与所述透明电极的形成同时地通过蚀刻去除形成所述密封部件的区域的所述半导体层,所述显示装置的制造方法具有在去除所述半导体层后的所述第一绝缘膜上设置所述密封部件的工序。 |
地址 |
日本大阪府 |