发明名称 一种具有低多晶掺杂浓度的单栅非易失存储单元
摘要 一种具有低多晶掺杂浓度的单栅非易失存储单元,包括控制管、隧穿管以及选择管,控制管和选择管为PMOS晶体管,隧穿管为改进的具有低多晶掺杂浓度的PMOS晶体管;控制管、隧穿管的栅极连接在一起,作为存储电荷的浮栅,该浮栅与外界通过绝缘层隔离;控制管驻留在第一个N阱中,隧穿管和选择管驻留在第二个N阱中。控制管的源极、漏极与第一个N阱连接在一起作为控制端子,隧穿管的源极与第二个N阱连接在一起作为隧穿端子,选择管的栅极作为选择端子,选择管的源极与隧穿管的漏极连接,选择管的漏极输出数据。其与标准CMOS工艺兼容,且使用改进的隧穿管,能够增强隧穿管的反偏FN隧穿电流,从而提高存储单元的擦除效率,且对存储单元的数据保持性无影响。
申请公布号 CN104123962A 申请公布日期 2014.10.29
申请号 CN201410346979.8 申请日期 2014.07.21
申请人 中国人民解放军国防科学技术大学;湖南晟芯源微电子科技有限公司 发明人 李建成;李聪;尚靖;李文晓;王震;谷晓忱;郑黎明;曾祥华;李浩
分类号 G11C16/02(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I 主分类号 G11C16/02(2006.01)I
代理机构 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人 胡伟华
主权项 一种具有低多晶掺杂浓度的单栅非易失存储单元,其特征在于:包括控制管、隧穿管以及选择管,控制管和选择管为PMOS晶体管,隧穿管为改进的具有低多晶掺杂浓度的PMOS管;控制管、隧穿管的栅极连接在一起,作为存储电荷的浮栅,该浮栅与外界通过绝缘层隔离;控制管驻留在第一个N阱中,隧穿管和选择管驻留在第二个N阱中;控制管的源极、漏极与第一个N阱连接在一起作为控制端子,隧穿管的源极与第二个N阱连接在一起作为隧穿端子,选择管的栅极作为选择端子,选择管的源极与隧穿管的漏极连接,选择管的漏极输出数据。
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