发明名称 |
一种具有低多晶掺杂浓度的单栅非易失存储单元 |
摘要 |
一种具有低多晶掺杂浓度的单栅非易失存储单元,包括控制管、隧穿管以及选择管,控制管和选择管为PMOS晶体管,隧穿管为改进的具有低多晶掺杂浓度的PMOS晶体管;控制管、隧穿管的栅极连接在一起,作为存储电荷的浮栅,该浮栅与外界通过绝缘层隔离;控制管驻留在第一个N阱中,隧穿管和选择管驻留在第二个N阱中。控制管的源极、漏极与第一个N阱连接在一起作为控制端子,隧穿管的源极与第二个N阱连接在一起作为隧穿端子,选择管的栅极作为选择端子,选择管的源极与隧穿管的漏极连接,选择管的漏极输出数据。其与标准CMOS工艺兼容,且使用改进的隧穿管,能够增强隧穿管的反偏FN隧穿电流,从而提高存储单元的擦除效率,且对存储单元的数据保持性无影响。 |
申请公布号 |
CN104123962A |
申请公布日期 |
2014.10.29 |
申请号 |
CN201410346979.8 |
申请日期 |
2014.07.21 |
申请人 |
中国人民解放军国防科学技术大学;湖南晟芯源微电子科技有限公司 |
发明人 |
李建成;李聪;尚靖;李文晓;王震;谷晓忱;郑黎明;曾祥华;李浩 |
分类号 |
G11C16/02(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I |
主分类号 |
G11C16/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京中济纬天专利代理有限公司 11429 |
代理人 |
胡伟华 |
主权项 |
一种具有低多晶掺杂浓度的单栅非易失存储单元,其特征在于:包括控制管、隧穿管以及选择管,控制管和选择管为PMOS晶体管,隧穿管为改进的具有低多晶掺杂浓度的PMOS管;控制管、隧穿管的栅极连接在一起,作为存储电荷的浮栅,该浮栅与外界通过绝缘层隔离;控制管驻留在第一个N阱中,隧穿管和选择管驻留在第二个N阱中;控制管的源极、漏极与第一个N阱连接在一起作为控制端子,隧穿管的源极与第二个N阱连接在一起作为隧穿端子,选择管的栅极作为选择端子,选择管的源极与隧穿管的漏极连接,选择管的漏极输出数据。 |
地址 |
410073 湖南省长沙市开福区德雅路109号 |