发明名称 |
绘画装置和物品的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种绘画装置和物品的制造方法,该绘画装置包含:多个带电粒子光学系统,所述多个带电粒子光学系统沿第一方向以某个节距排列,每个带电粒子光学系统被配置为利用带电粒子束照射基板;台架,被配置为保持基板并且沿与所述第一方向正交的第二方向相对于所述带电粒子光学系统移动;以及控制器,被配置为针对每个带电粒子光学系统确定用于绘画的带电粒子束,以便满足由SW=Pc/α=Ps/β给出的关系,这里,Ps为射击区域沿第一方向的阵列节距,SW为通过每个带电粒子光学系统的每个绘画区域沿第一方向的宽度,Pc为绘画区域沿第一方向的阵列节距,α和β为自然数。 |
申请公布号 |
CN104122758A |
申请公布日期 |
2014.10.29 |
申请号 |
CN201410164563.4 |
申请日期 |
2014.04.22 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
森田知之 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I;H01J37/304(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
罗银燕 |
主权项 |
一种用于利用带电粒子束在基板上执行绘画的绘画装置,该装置包括:多个带电粒子光学系统,每个带电粒子光学系统被配置为利用多个带电粒子束照射基板,所述多个带电粒子光学系统沿第一方向以某个节距排列;台架,被配置为保持基板并且沿与所述第一方向正交的第二方向相对于所述多个带电粒子光学系统移动;以及控制器,被配置为针对所述多个带电粒子光学系统中的每一个确定多个带电粒子束中的要被用于绘画的带电粒子束,以便满足由SW=Pc/α=Ps/β给出的关系,这里,Ps为基板上的射击区域沿第一方向的阵列节距,SW为通过所述多个带电粒子光学系统中的每一个的基板上的多个绘画区域中的每一个沿第一方向的宽度,Pc为所述多个绘画区域沿第一方向的阵列节距,α和β为自然数。 |
地址 |
日本东京 |