发明名称 |
一种Ag/TiO<sub>2</sub>纳米复合变色材料制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种Ag/TiO<sub>2</sub>纳米复合变色材料制备方法,采用活性磁控溅射技术沉积制备Ag纳米颗粒分散在TiO2基质中的纳米复合材料。在一定的活性磁控技术条件下沉积TiO<sub>2</sub>金属氧化物时,下层的Ag膜由于等离子体中活性氧的作用形成Ag纳米结构,从而形成Ag/TiO<sub>2</sub>结构。 |
申请公布号 |
CN104120394A |
申请公布日期 |
2014.10.29 |
申请号 |
CN201410298799.7 |
申请日期 |
2014.06.30 |
申请人 |
左娟 |
发明人 |
左娟;王镇国;陈阿娇 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种Ag/TiO<sub>2</sub>纳米复合变色材料制备方法,其特征在于包括以下步骤:步骤一:沉积TiO<sub>2</sub>膜采用JGP450型磁控溅射镀膜机,该镀膜机配备有2个射频溅射靶,Ag膜的溅射使用99.99%纯度的Ag金属靶,TiO<sub>2</sub>膜的溅射使用99.9%纯度TiO<sub>2</sub>烧结多晶靶材,频率为13.56MHz,溅射气体为Ar;首先将真空室抽至1×10<sup>‑4</sup>pa,溅射气压为0.025mbar,射频溅射功率为50W,玻璃基板用丙酮、乙醇和二次去离子水超声波清洗15min,之后沉积TiO<sub>2</sub>,TiO<sub>2</sub>沉积的厚度约为10nm,所述TiO<sub>2</sub>的沉积条件为室温,射频输出功率(W)为100,真空度(mbar)为0.025,Ar流速(sccm)为8;步骤二:沉积Ag膜于室温下在Ar流量为8sccm下玻璃上沉积30s的Ag膜;步骤三,沉积TiO<sub>2</sub>膜;将步骤一中沉积了Ag膜的基体上再次沉积TiO<sub>2</sub>,所沉积的厚度为50‑100nm,所述TiO<sub>2</sub>的沉积条件为于室温下,射频输出功率(W)为150,真空度(mbar)为0.025,Ar流速(sccm)为7,氧气流速(sccm)为1;制得Ag/TiO<sub>2</sub>纳米复合变色材料。 |
地址 |
361000 福建省厦门市思明区思明南路394号 |