多区域气体流量控制装置

摘要

本实用新型公开了一种多区域气体流量控制装置，应用于半导体设备中，所述半导体设备包括腔体，所述腔体内置有上电极和与所述上电极相对的下电极；所述多区域气体流量控制装置包括：流量控制器、管道、多个输入管，所述流量控制器与所述管道连接，所述管道与多个所述输入管连接，所述输入管穿过所述腔体后作用于所述上电极，利用所述流量控制器控制流经所述管道和所述输入管的气体的流量。本实用新型多区域气体流量控制装置有效调整气体分布的均匀性，防止发生上电极下垂的现象，使上下电极的间隙保持一致。

主权项

一种多区域气体流量控制装置，应用于半导体设备中，所述半导体设备包括腔体，所述腔体内置有上电极和与所述上电极相对的下电极；其特征在于，所述多区域气体流量控制装置包括：流量控制器、管道、多个输入管，所述流量控制器与所述管道连接，所述管道与多个所述输入管连接，所述输入管穿过所述腔体后作用于所述上电极，利用所述流量控制器控制流经所述管道和所述输入管的气体的流量。