发明名称 排气处理装置
摘要 本发明提供一种能够高效地处理包含氢和氨的排气的排气处理装置。该排气处理装置包括:第1除害装置(12),其用于进行包含氢和氨的排气的一次处理;第2除害装置(13),其用于在第1除害装置之后进行排气的二次除害处理;温度测定部件(14),其用于测定从第1除害装置导出的一次处理气体的温度;以及控制部件(15),在由温度测定部件测定的一次处理气体的温度高于设定为比预先设定的目标温度高的高温侧设定温度时,该控制部件进行降低第1除害装置的运行温度的控制,在由温度测定部件测定的一次处理气体的温度低于设定为比目标温度低的低温侧设定温度时,该控制部件进行升高第1除害装置的运行温度的控制。
申请公布号 CN104121590A 申请公布日期 2014.10.29
申请号 CN201410168388.6 申请日期 2014.04.24
申请人 大阳日酸株式会社 发明人 坂田晋;川端宏文
分类号 F23G7/06(2006.01)I;B01D53/86(2006.01)I 主分类号 F23G7/06(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种排气处理装置,其是用于对包含氢和氨的排气进行处理的排气处理装置,其中,包括:第1除害装置,其用于进行上述排气的一次处理;第2除害装置,其用于在该第1除害装置之后进行上述排气的二次处理;温度测定部件,其用于测定从上述第1除害装置导出的一次处理气体的温度;以及控制部件,在由该温度测定部件测定的一次处理气体的温度高于设定为比预先设定的目标温度高的高温侧设定温度时,该控制部件进行降低上述第1除害装置的运行温度的控制,并且在由上述温度测定部件测定的一次处理气体的温度低于设定为比上述目标温度低的低温侧设定温度时,该控制部件进行升高上述第1除害装置的运行温度的控制。
地址 日本东京都