发明名称 | 涡流探伤方法以及装置 | ||
摘要 | 包括:同步步骤(S3,S4),使线圈驱动部件对励磁线圈施加的励磁电压的相位与元件驱动部件对磁阻抗效应元件施加的、频率比励磁电压高的驱动电压的相位同步,所述励磁线圈用于在被检测体中产生涡流,所述磁阻抗效应元件用于检测在所述励磁线圈中产生的磁场的变化;以及磁场检测步骤(S5),通过磁阻抗效应元件检测由于在被检测体中产生的涡流而在励磁线圈中产生的磁场的变化。 | ||
申请公布号 | CN104126117A | 申请公布日期 | 2014.10.29 |
申请号 | CN201380010135.X | 申请日期 | 2013.02.15 |
申请人 | 株式会社IHI | 发明人 | 津田明宪;畠中宏明;河井宽记 |
分类号 | G01N27/90(2006.01)I | 主分类号 | G01N27/90(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 金景花 |
主权项 | 一种涡流探伤方法,其特征在于,包括:同步步骤,使线圈驱动部件对励磁线圈施加的励磁电压的相位与元件驱动部件对磁阻抗效应元件施加的、频率比励磁电压高的驱动电压的相位同步,所述励磁线圈用于在被检测体中产生涡流,所述磁阻抗效应元件用于检测在所述励磁线圈中产生的磁场的变化;以及磁场检测步骤,通过所述磁阻抗效应元件检测由于在所述被检测体中产生的涡流而在所述励磁线圈中产生的磁场的变化。 | ||
地址 | 日本东京都 |