发明名称 镀膜设备
摘要 本发明公开了一种镀膜设备,用于对基板执行镀膜工艺,所述镀膜设备包括:转盘;传送室,包括沿所述转盘外周配置的多个腔体,所述多个腔体包括进料腔体、至少一用于非金属镀膜的非金属镀膜腔体、至少一用于金属镀膜的金属镀膜腔体和出料腔体;以及传送装置,设置于所述转盘内,所述传送装置能够自所述传送室的其中一腔体取出所述基板,传送至其他腔体。本发明加快了产品的生产效率,简化了制程,节省了无尘室空间。
申请公布号 CN104120389A 申请公布日期 2014.10.29
申请号 CN201410379728.X 申请日期 2014.08.04
申请人 上海和辉光电有限公司 发明人 郭世佳;刘滔滔;王云靖
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 赵根喜;李昕巍
主权项 一种镀膜设备,用于对基板执行镀膜工艺,其特征在于,所述镀膜设备包括:中央转盘;传送室,包括沿所述中央转盘外周配置的多个腔体,所述多个腔体包括进料腔体、至少一用于非金属镀膜的非金属镀膜腔体、至少一用于金属镀膜的金属镀膜腔体和出料腔体;以及传送装置,设置于所述中央转盘内,所述传送装置能够自所述传送室的其中一腔体取出所述基板,传送至其他腔体。
地址 201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室