| 发明名称 | 具有ZrSiNx薄膜的镀膜玻璃及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出了一种具有ZrSiNx薄膜的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃中具有ZrSiNx膜层，0≤x≤4；所述ZrSiNx薄膜由硅锆合金在通入氮气N<sub>2</sub>和氩气Ar的氛围下磁控溅射沉积形成。本发明ZrSiNx薄膜可以在玻璃基片上均匀沉积成膜，ZrSiNx薄膜呈非晶态，沉积速率快，可充当镀膜玻璃的任意电介质层，可以改善镀膜玻璃的可加工性能和抗氧化性能，提高机械性能。 | ||
| 申请公布号 | CN104118175A | 申请公布日期 | 2014.10.29 |
| 申请号 | CN201410344925.8 | 申请日期 | 2014.07.21 |
| 申请人 | 林嘉佑 | 发明人 | 林嘉佑 |
| 分类号 | B32B17/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 主分类号 | B32B17/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种具有ZrSiNx薄膜的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃中具有ZrSiNx膜层，0≤x≤4；所述ZrSiNx薄膜由硅锆合金在通入氮气N<sub>2</sub>和氩气Ar的氛围下磁控溅射沉积形成。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北市 | ||