发明名称 |
一种偏差补正方法和装置 |
摘要 |
本发明公开了一种偏差补正方法和装置,计算曝光后形成的图形上至少一个点在X和Y方向上的位移偏移量,还计算所述图形上至少一条对角线的旋转角度偏移量;根据得到的位移偏移量以及旋转角度偏移量进行偏差补正。本发明的偏差补正技术利用曝光后形成的图形的对角线的旋转角度进行偏差补正,比现有技术中计算四条边的旋转角度更能反应曝光后形成图形的旋转趋势,有效提高了偏差补正准确性;并且,由于对设计图形没有形状和位置的要求,因此对何种图形均能够计算出曝光后形成图形的旋转角度;另外,进行偏差补正时的具体计算次数从现有技术的四次变为两次,因此偏差补正的操作更加简便、快捷。 |
申请公布号 |
CN104122770A |
申请公布日期 |
2014.10.29 |
申请号 |
CN201310153820.X |
申请日期 |
2013.04.27 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
张思凯;汪栋;黎敏;姜晶晶;吴洪江 |
分类号 |
G03G15/04(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 |
代理人 |
张颖玲;张振伟 |
主权项 |
一种偏差补正方法,其特征在于,该方法包括:计算曝光后形成的图形上至少一个点在X和Y方向上的位移偏移量,还计算所述图形上至少一条对角线的旋转角度偏移量;根据得到的位移偏移量以及旋转角度偏移量进行偏差补正。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |