反应釜用搅拌装置

摘要

本实用新型公开了一种反应釜用搅拌装置，包括电机和转轴，转轴的上部和下端分别固定有第一、二搅拌桨，转轴径向向外设有凸条，设有分散盘，分散盘包括圆盘、一圈上叶片和一圈下叶片，分散盘通过中心孔穿于转轴上，且转轴上的凸条位于中心孔的凹槽中，分散盘能够沿转轴上下移动并受上限位挡止和下限位挡止阻挡，由于转轴从上至下依次设有第一搅拌桨、分散盘和第二搅拌桨，这三种搅拌相互作用形成一种全方位搅动流态，而且分散盘可以根据转速改变其上下位置，可以形成更加理想的流态，因此，该搅拌装置能够使胶状或者接近胶状的物料得到全方位的搅动，适用于搅拌感光胶、电子浆料和油墨。

主权项

一种反应釜用搅拌装置，包括电机(1)和转轴(2)，电机输出端与转轴连接，其特征在于：所述转轴的上部和下端分别固定连接有第一搅拌桨(3)和第二搅拌桨(4)，所述转轴的上部且位于所述第一搅拌桨下方的部位固定连接有上限位挡止(5)，所述转轴的下部且位于所述第二搅拌桨上方的部位固定连接有下限位挡止(6)，所述转轴径向向外设有至少一个凸条(7)，每个所述凸条自所述下限位挡止延伸至所述上限位挡止，设有分散盘(8)，所述分散盘包括圆盘(81)、一圈上叶片(82)和一圈下叶片(83)，所述圆盘具有中心孔(84)，所述中心孔设有与所述凸条相配合的凹槽(85)，所述分散盘通过所述中心孔穿于所述转轴上，且所述转轴上的凸条位于所述中心孔的凹槽中，所述分散盘能够沿所述转轴上下移动并受所述上限位挡止和下限位挡止阻挡，所述一圈上叶片由若干上叶片构成且沿圆盘外圆周均匀分布，所述上叶片的一端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端高于所述圆盘，所述一圈下叶片由若干下叶片构成且沿圆盘外圆周均匀分布，所述下叶片的一端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端低于所述圆盘。