| 摘要 |
ウエハ上に設けた、カスタマイズ不可のマスク層を備えた第１の固定（非プログラマブル）領域と、第１固定領域の上に設けた、カスタマイズ可能なマスク層を備えたプログラマブル領域と、を備えるカスタム集積回路（ＩＣ）を形成するためのシステムおよび方法を開示する。第１の固定領域は、ベースセルを形成する、多数のトランジスタと、第１の相互接続層と、前記第１の相互接続層の上に設けた第２の相互接続層とを備える。プログラマブル領域のマスク層のうち少なくとも１層を第２の相互接続層と接続して、ベースセルのすべてのトランジスタノードへの電気的アクセスを可能にする。プログラマブル領域は、カスタマイズ可能なマスク層と接続する第３の相互接続層を備え、ＩＣをカスタマイズする。第２の固定領域をプログラム領域の上に形成し、固定領域を複数とし、カスタムＩＣをカスタマイズする際に必要なマスクの数を削減してもよい。【選択図】図４ |
