マスク基材用ヒドロゲル組成物及びそれを用いたヒドロゲルの製造方法

摘要

【課題】マスク基材用ヒドロゲル組成物及びそれを用いたヒドロゲルの製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、ヒドロゲル組成物及びそれを用いたヒドロゲルの製造方法に関し、架橋剤０．１乃至１０質量％、ゲル化高分子０．２乃至６質量％、多価アルコール０．５乃至２０質量％及び精製水７０乃至９０質量％を含むことで、支持体がなくても形態を保持することができ、ヒドロゲルを美容剤または薬剤に浸漬した際にも分解（流動化）せずに安定的である。また、美容剤または薬剤を皮膚に均一に伝達することができる。【選択図】なし