Process for the preparation of TiO2 thin films with high hardness and a thin layer of TiO2 with increased hardness

摘要

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania cienkich warstw na bazie TiO2 o podwyższonej twardości oraz cienka warstwa TiO2 o podwyższonej twardości przeznaczona do zastosowania jako przezroczyste powłoki ochronne. Sposób wytwarzania cienkich warstw TiO2 o podwyższonej twardości polega na tym, że powierzchnię roboczą targetu tytanowego wraz z dodatkiem neodymu Ti-Nd stanowiącego katodę uzdatnia się, po czym w procesie rozpylania magnetronowego targetu Ti-Nd w niskociśnieniowej plazmie tlenowej nanosi się na podłoża cienką warstwę TiO2 o strukturze rutylu, w którą wbudowana jest domieszka neodymu. Cienka warstwa TiO2 o podwyższonej twardości charakteryzuje się tym, że ilość pierwiastkowego neodymu wprowadzonego do bazowej matrycy TiO2, zawiera się w zakresie do 2% atomowych.