Beschichtungsanlage und Beschichtungsverfahren

摘要

Beschichtungsanlage (1), enthaltend zumindest einen evakuierbaren Rezipienten (10), welcher zur Aufnahme eines Substrates (30) vorgesehen ist, zumindest eine Gaszufuhreinrichtung (20, 21, 22), mittels welcher zumindest ein gasförmiger Prekursor in den Rezipienten (10) einleitbar ist und zumindest eine Aktivierungseinrichtung (40), welche zumindest ein beheizbares Aktivierungselement (41) enthält, dessen Ende an einer Befestigungsstelle (42) an einem Halteelement (43) befestigt ist, wobei ein Abschirmelement (50) vorhanden ist, mit welchem zumindest die Befestigungsstelle (42) zumindest teilweise vor der Einwirkung des gasförmigen Prekursors schützbar ist, wobei das Abschirmelement (50) zylinderförmig oder kegelförmig ausgebildet ist, und an der dem Halteelement (43) abgewandten Seite des Abschirmelementes (50) ein Verschlusselement (52) angeordnet ist, welches zumindest eine Austrittsöffnung (53) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass das Abschirmelement (50) zumindest eine Trennwand (55) aufweist, welche das Innenvolumen (56) des Abschirmelementes (50) in ein erstes Teilvolumen (56a) und ein zweites Teilvolumen (56b) trennt, wobei die Trennwand (55) und das Verschlusselement (52) als Stirnwand ausgebildet sind.