| 摘要 |
本発明は、光源システムおよびこれを用いた投影システムに関するものである。この光源システムは、励起光を放出する光源（１０）と、光波長変換材料を備えた運動装置（２０）と、および調整装置（３０）とを含む。この励起光は、前記光波長変換材料に照射される。運動装置（２０）が周期運動状態にあるときに、この励起光の前記運動装置（２０）への照射によって形成された光スポットの位置は、第１の作業軌跡に沿って周期的に運動する。調整装置（３０）は、前記光スポットの位置を調整することにより、調整された励起光の前記運動装置（２０）への照射によって形成された光スポットの位置が第２の作業軌跡に沿って周期的に運動するようにするものである。第１の作業軌跡と第２の作業軌跡は、離隔されている。本発明によれば、第１の作業軌跡上の光波長変換材料の作業負荷を減らすことができ、これにより、光波長変換材料の老化を遅らせ、光源システムの使用寿命を延長することができる。【選択図】図１ |
