| 发明名称 | 用于光学应用的纳米多孔层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种包括基底层和层的层结构，所述层包含许多氧化硅粒子，其中所述氧化硅粒子具有带正电荷的表面(PCS层)，所述PCS层至少部分地叠加至所述基底层，并且其中所述PCS层的折射率小于1.2；一种用于制造具有基底和PCS层的所述层结构的方法；一种可通过所述方法获得的层结构；包括所述层结构的光学器件以及PCS层的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN104114745A | 申请公布日期 | 2014.10.22 |
| 申请号 | CN201380008510.7 | 申请日期 | 2013.02.07 |
| 申请人 | 依福德成像瑞士有限公司 | 发明人 | 乌尔斯·菲尔霍尔茨;文森特·鲁菲尤斯;斯特凡·许特勒 |
| 分类号 | C23C18/12(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 纪晓峰 |
| 主权项 | 一种层结构(1)，所述层结构(1)包括(a)基底层(2)；和(b)PCS层(3)，所述PCS层(3)至少部分地叠加至所述基底层(2)，其中所述PCS层(3)包含许多氧化硅粒子(4)，其中所述氧化硅粒子(4)具有带正电荷的表面，其中所述PCS层(3)的折射率小于1.2。 | ||
| 地址 | 瑞士马尔利 | ||