发明名称 |
表面改性的c-Si及其制备方法与应用 |
摘要 |
本发明公开了一种表面改性的c-Si及其制备方法与应用。该表面改性的c-Si制备方法包括对c-Si纳米粒子表面进行酸液处理的步骤、将经酸液处理的c-Si纳米粒子分散的步骤和将经酸液处理的c-Si纳米粒子与硅烷偶联剂于70~90℃进行反应的步骤。上述表面改性的c-Si制备方法采用硅烷偶联剂对c-Si纳米粒子表面进行改性修饰,使得制备获得的表面改性的c-Si具有优异的分散性能,避免受到仪器的限制,降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN104109405A |
申请公布日期 |
2014.10.22 |
申请号 |
CN201410364653.8 |
申请日期 |
2014.07.28 |
申请人 |
深圳市沃特新材料股份有限公司 |
发明人 |
张亮;吴宪;梁胜;陈章;何征 |
分类号 |
C09C1/00(2006.01)I;C09C3/12(2006.01)I |
主分类号 |
C09C1/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳中一专利商标事务所 44237 |
代理人 |
张全文 |
主权项 |
一种c‑Si表面改性方法,包括如下步骤:获取c‑Si纳米粒子,并对其表面进行酸液处理;将进行酸液处理后的所述c‑Si纳米粒子分散于有机溶剂中,形成分散体系;将所述分散体系加热至70~90℃后,加入硅烷偶联剂,保持所述分散体系的温度为70~90℃进行反应;待反应结束后,进行固液分离、洗涤、干燥处理,得到表面改性的c‑Si纳米粒子。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区南头关口二路智恒战略性新兴产业园10栋 |