发明名称 磁控溅射阴极靶材的密封结构
摘要 本发明涉及磁控溅射阴极靶材的密封结构。包括靶材和阴极座,所述的靶材固定在靶背板上,所述的靶背板与阴极座之间设有导磁不锈钢密封板,所述的导磁不锈钢密封板与阴极座之间设有密封两者的第一密封圈,所述的导磁不锈钢密封板及靶背板分别与阴极座固定连接。由上述技术方案可知,本发明通过在阴极座与靶背板之间增设一个导磁不锈钢密封板,且该导磁不锈钢密封板与阴极座相密封固定,这样在日常对靶背板进行检查、维修等操作时,直接将靶背板与阴极座相拆卸即可,整个拆卸过程不会影响到阴极座与导磁不锈钢密封板之间的密封圈,避免了对密封圈的损害,提高了密封圈的使用寿命,减少了日常的使用成本。
申请公布号 CN103060766B 申请公布日期 2014.10.22
申请号 CN201310035566.3 申请日期 2013.01.30
申请人 安徽省蚌埠华益导电膜玻璃有限公司 发明人 陈诚;邵帅;刘西宁
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 代理人 王琪
主权项 一种磁控溅射阴极靶材的密封结构,包括靶材(1)和阴极座(2),所述的靶材(1)固定在靶背板(3)上,其特征在于:所述的靶背板(3)与阴极座(2)之间设有导磁不锈钢密封板(4),所述的导磁不锈钢密封板(4)与阴极座(2)之间设有密封两者的第一密封圈(5),所述的导磁不锈钢密封板(4)及靶背板(3)分别与阴极座(2)固定连接。
地址 233010 安徽省蚌埠市高新技术产业开发区长明路377号