光刻设备和器件制造方法

摘要

公开了一种光刻设备，包括光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上。聚焦控制器被设置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置(906、920、924、930)，其中聚焦控制器包括聚焦测量装置(942)和聚焦致动器，聚焦测量装置配置成确定参考物体(938)上的聚焦品质，聚焦致动器配置成基于已确定的聚焦品质调整光学装置列的聚焦位置。

主权项

一种光刻设备，包括：光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上，所述光学装置列包括辐射源和投影系统，所述辐射源配置成提供束，所述投影系统配置成将所述束投影到所述目标部分上，其中所述投影系统包括投影透镜、场透镜和成像透镜，其中所述光学装置列具有聚焦位置；可旋转框架，所述场透镜和成像透镜安装在所述可旋转框架上，所述场透镜和所述成像透镜随着所述可旋转框架的旋转而旋转；扫描移动致动器，配置成沿着扫描方向相对于光学装置列以扫描速度移动衬底；和聚焦控制器，配置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置，其中，聚焦控制器包括聚焦测量装置和聚焦致动器，所述聚焦测量装置配置成确定参考物体上的聚焦品质，所述聚焦致动器配置成基于所确定的聚焦品质调整光学装置列的聚焦位置。