| 发明名称 | 一种透光氧化铝基板及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种透光氧化铝基板及其制备方法，所述透光氧化铝基板包括透光氧化铝基底，在所述透光氧化铝基底的至少一面的至少部份区域披覆有不连续光学披覆层，所述不连续光学披覆层包含多个由第一材料构成的纳米级成长轴向偏离成长体。本申请利用不连续光学披覆层，可以改变透光氧化铝基底的表面形貌及构成一折射率匹配层以降低界面反射的影响以提升透光率。 | ||
| 申请公布号 | CN104111486A | 申请公布日期 | 2014.10.22 |
| 申请号 | CN201310442066.1 | 申请日期 | 2013.09.25 |
| 申请人 | 美高国际科技有限公司 | 发明人 | 谢国伟;谭海岚;李敬辉;李嘉旋;卢明 |
| 分类号 | G02B1/10(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;B82Y20/00(2011.01)I | 主分类号 | G02B1/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人 | 刘贻盛 |
| 主权项 | 一种透光氧化铝基板，包括透光氧化铝基底，其特征在于，在所述透光氧化铝基底的至少一面的至少部份区域披覆有不连续光学披覆层，所述不连续光学披覆层包含多个由第一材料构成的纳米级成长轴向偏离成长体。 | ||
| 地址 | 中国香港九龙红磡芜湖街70-74号润达商业大厦14楼C座 | ||