发明名称 半导体镀膜设备用高温观察盖板
摘要 一种半导体镀膜设备用高温观察盖板,主要解决现有设备反应腔体的高温工艺过程是不可观察的状况。结构中的可视部分选用了透明的光学用石英玻璃,这样能直接观察机械手的传片、放片及取片的过程、硅片镀膜的工艺过程及陶瓷件偏移或碎裂的过程等。它包括把手、金属环、平头螺钉、金属压板、塑料板、石英玻璃板、垫片、螺钉及密封圈。上述金属环的密封槽内嵌入密封圈,在嵌入密封圈的金属环的端面上设有石英玻璃,石英玻璃上面设有垫圈,将金属压板压在垫圈上,再对角拧紧螺钉,然后用平头螺钉将塑料板固定在金属压板的上面。本实用新型结构合理,可广泛用于半导体薄膜沉积技术领域。
申请公布号 CN203895416U 申请公布日期 2014.10.22
申请号 CN201420198568.4 申请日期 2014.04.22
申请人 沈阳拓荆科技有限公司 发明人 吴凤丽;姜崴;方仕彩
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人 甄玉荃
主权项 一种半导体镀膜设备用高温观察盖板,包括把手(1),其特征在于:它还包括金属环(2)、平头螺钉(3)、金属压板(4)、塑料板(5)、石英玻璃板(6)、垫片(7)、螺钉(8)及密封圈(9),上述金属环(2)的密封槽内嵌入密封圈(9),在嵌入密封圈(9)的金属环(2)的端面上设有石英玻璃(6),石英玻璃(6)上面设有垫圈(7),将金属压板(4)压在垫圈(7)上,再对角拧紧螺钉(8),然后用平头螺钉(3)将塑料板(5)固定在金属压板(4)的上面。
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