发明名称 触控感应层及触控显示装置的形成方法
摘要 本发明提出一种触控感应层的形成方法,用于形成图案化的氧化铟锡薄膜及导电薄膜,其包括在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层;在图案化的第一光阻层上镀上导电薄膜;利用第一道剥离工序形成图案化的导电薄膜;在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层,且形成图案化的第二光阻层;在图案化的第二光阻层上镀上氧化铟锡薄膜;及利用第二道剥离工序形成与图案化的导电薄膜对位的氧化铟锡薄膜。本发明还提供一种使用所述触控感应层的形成方法的触控感应装置的形成方法。本发明的触控感应层的形成方法首先图案化光阻层,再利用剥离工序分别形成导电薄膜及氧化铟锡薄膜,形成的导电薄膜及氧化铟锡薄膜对位精准、制成简单,从而使得形成的触控感应层精准度高。
申请公布号 CN104111754A 申请公布日期 2014.10.22
申请号 CN201410323444.9 申请日期 2014.07.08
申请人 昆山龙腾光电有限公司 发明人 简廷宪;钟德镇;戴文君;潘新叶
分类号 G06F3/041(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I 主分类号 G06F3/041(2006.01)I
代理机构 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人 杨波
主权项 一种触控感应层的形成方法,用于形成图案化的氧化铟锡薄膜及导电薄膜,其特征在于,所述触控感应层的形成方法包括:在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层;在图案化的第一光阻层上镀上导电薄膜;利用第一道剥离工序形成图案化的导电薄膜;在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层,且形成图案化的第二光阻层;在图案化的第二光阻层上镀上氧化铟锡薄膜;及利用第二道剥离工序形成与图案化的导电薄膜对位的氧化铟锡薄膜。
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