狭缝模具涂布方法

摘要

本发明涉及一种狭缝模具涂布方法，即，一种将光学涂层涂覆到基材上的方法，所述方法包括如下步骤：(a)制备含有溶剂组分和成膜组分的光学涂层制剂；(b)利用模具涂布机通过将所述光学涂层涂覆到基材上而形成被涂基材，其中所述被涂覆的光学涂层在所述基材上形成厚度为8μm至100μm的湿膜；(c)干燥所述被涂基材，其中所述被涂基材处于基本水平的平面，从而使所述湿膜转换成厚度小于1μm的干膜。所述光学涂层制剂包含，相对于所述光学涂层制剂的总重量，大于0.3wt％但不超过10％的固体。所述被涂基材可选被固化。

主权项

一种抗反射玻璃基材，所述基材在具有至少0.1m²的表面积的至少一侧上涂有含有纳米颗粒和粘结剂的抗反射涂层，其中所述涂层的厚度为50到200nm，并且在所述基材的整个被涂表面积上，所述涂层发生最小反射的光学波长的差异小于50nm。