| 发明名称 | 真空镀膜装置中用于接收和引导带状基材的处理辊 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种真空镀膜装置中用于接收和引导带状基材的处理辊，其包括位于处理辊内的加热器，所述加热器呈细长辐射加热器形式，并且所述处理辊具有用于接收带状基材的圆柱形侧面，所述处理辊在真空处理室中关于旋转轴线可旋转地安装。本发明旨在提供一种处理辊，其中通过简单的方式能够在其侧面获得特别均匀的温度分布。通过以真空密封方式构造的处理辊(2)、与两个端盖(4，5)以真空密封的方式连接的处理辊的侧面(3)、与真空连接件(6)连接的处理辊(2)的内部空间、以及延伸到端盖(4，5)的区域中的辐射加热器(8)实现该目的，其中两个端盖(4，5)具有平的、向外弯曲的半球形式。 | ||
| 申请公布号 | CN104114743A | 申请公布日期 | 2014.10.22 |
| 申请号 | CN201380006453.9 | 申请日期 | 2013.02.11 |
| 申请人 | FHR设备制造有限公司 | 发明人 | 卢茨·克勒;丹尼尔·米歇尔;安东尼·诺贝尔;马尔科·格拉芬 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 梁晓广;关兆辉 |
| 主权项 | 一种真空镀膜装置中用于接收和引导带状基材的处理辊，包括位于处理辊内部的加热器，所述加热器呈细长的辐射加热器形式，所述处理辊还具有用于接收带状基材的圆柱形侧面，所述处理辊在真空处理室中关于旋转轴线以可旋转的方式安装，其特征在于，所述处理辊(2)被以真空密封方式构造，其中处理辊(2)的侧面(3)与两个端盖(4，5)以真空密封方式连接，处理辊(2)的内部空间与真空连接件(6)连接，且辐射加热器(8)延伸到端盖(4，5)的区域中，其中端盖(4，5)具有平的、向外弯曲的半球形式。 | ||
| 地址 | 德国奥滕多夫-奥克里拉 | ||