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Procedimiento para la producción controlada de grafeno a muy baja presión y dispositivo para llevar a cabo el procedimiento. Procedimiento y dispositivo para preparar una estructura de grafeno de 1-5 capas, teniendo control del número de capas, mediante un procedimiento de depósito químico de vapor sobre un sustrato determinado, a la presión de vacío de 10-4-10-5 Pa, y a la temperatura de 500-1050ºC, basado en usar un gas precursor de carbono con una secuencia sincronizada de pulsos; cada pulso tiene un tiempo específico de escape del gas precursor, debido al bombeo, consistiendo el pulso de presión en una subida de presión instantánea debida a la apertura instantánea de una válvula, seguida de un decrecimiento exponencial de la presión; el número de pulsos estando en función de la cantidad de capas, y el tiempo entre pulsos estando en función del tiempo específico de escape del gas precursor de carbono. |
