发明名称 |
一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统 |
摘要 |
一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统,包括温控仪、真空泵、流量计、真空计、温度传感器、控制杆、进料和出料输送系统、PLC控制柜、数据线和信号线;温控仪、流量计、温度传感器与加热炉连接;真空泵、真空计与进料室、加热炉和出料室连接,分别用于抽真空和测量真空度;进料和出料输送系统分别位于进料室和出料室;控制杆用于进料和出料输送系统中的送取物料作业;PLC控制柜通过数据线和信号线与温控仪,真空泵,流量计,真空计,温度传感器,控制杆,进料室、出料室缸盖,进料室、出料室与加热炉间挡板阀连接并进行控制。本实用新型可在线监测和保存关键工艺参数的实时波形和数据,自动化程度高,可靠性和稳定性高,抗干扰能力强。 |
申请公布号 |
CN203894592U |
申请公布日期 |
2014.10.22 |
申请号 |
CN201320877948.6 |
申请日期 |
2013.12.27 |
申请人 |
无锡格菲电子薄膜科技有限公司 |
发明人 |
魏丽娜;蒋健伟 |
分类号 |
G05B19/05(2006.01)I |
主分类号 |
G05B19/05(2006.01)I |
代理机构 |
无锡华源专利事务所(普通合伙) 32228 |
代理人 |
冯智文 |
主权项 |
一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统,其特征在于:包括温控仪、真空泵、流量计、真空计、温度传感器、控制杆、进料和出料输送系统、PLC控制柜、数据线和信号线;所述温控仪、流量计、温度传感器与加热炉连接;所述真空泵、真空计与进料室、加热炉和出料室连接,分别用于抽真空和测量真空度;所述进料和出料输送系统分别位于进料室和出料室;所述控制杆用于所述进料和出料输送系统中的送取物料作业;所述PLC控制柜通过所述数据线和信号线与所述温控仪,真空泵,流量计,真空计,温度传感器,控制杆,进料室、出料室缸盖,进料室、出料室与加热炉之间挡板阀连接。 |
地址 |
214171 江苏省无锡市惠山经济开发区智慧路1号清华创新大厦A2005 |