主权项 |
一种具有层间复杂微通道流体强制对流冷却的3D‑IC,其特征在于,包括依次叠层封装在一起的密封片(1)、带有复杂微通道的芯片层、连接层(3);密封片(1)上开有与外部管路连接的流体入口(4)、流体出口(5);带有复杂微通道的芯片层分为带有复杂微通道的上层芯片层(2.1)、带有复杂微通道的中间芯片层(2.2)、带带有复杂微通道的底层芯片层(2.3);定义靠近密封片(1)的一面为芯片层的背面,远离的一面为正面;带有复杂微通道的上层芯片层(2.1)背面刻蚀复杂微通道(8)、正面布置电路层或微电子元器件(6),复杂微通道(8)左右两侧设有通孔TSFV(7),通孔TSFV(7)与上层芯片层(2.1)的复杂微通道相连通,上层芯片层(2.1)不需要TSEV(9);带有复杂微通道的中间芯片层(2.2)背面刻蚀复杂微通道(8)、正面布置电路层或微电子元器件(6),复杂微通道(8)左右两侧设有通孔TSFV(7),通孔TSFV(7)与中间芯片层(2.2)的复杂微通道相连通,复杂微通道(8)肋上设有连接上下层电的硅穿孔电连接TSEV(9);带有复杂微通道的底层芯片层(2.3)背面刻蚀复杂微通道(8)、正面布置电路层或微电子元器件(6),复杂微通道(8)左右两侧设有TSFV(7),TSFV(7)与底层芯片层(2.3)的复杂微通道相连通,复杂微通道(8)肋上设有连接上层电的硅穿孔电连接TSEV(9),此层芯片的TSFV(7)的刻蚀深度与微通道(8)的深度相同,从而形成底端封闭的TSFV(7);连接层(3);上述密封片(1)、带有复杂微通道的芯片层、连接层(3)的位置关系为上下结构,依次为:密封片(1)、上层芯片层(2.1)、连接层(3)、中间芯片层(2.2)、连接层(3)、底层芯片层(2.3),在底层芯片层(2.3)和上层芯片层(2.1)之间可根据需要设计多层中间芯片层(2.2),中间均采用连接层(3)连接,上述上层芯片层(2.1)、中间芯片层(2.2)、连接层(3)、底层芯片层(2.3)的两侧的TSFV(7)分别对应叠合,形成左右两个腔体;上层芯片层(2.1)、中间芯片层(2.2)和底层芯片层(2.3)的复杂微通道形成并联并分别与左右两个腔体垂直连通,密封片(1)的流体入口(4)、流体出口(5)分别与两个腔体连通。 |