TiWCN 硬质薄膜及制备方法

摘要

本发明公开了一种TiWCN硬质薄膜及制备方法，其特征在于该薄膜是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，C，N)，厚度在1-3μm。沉积时，真空度优于3.0×10^-5Pa时，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa，氩氮流量比10:(1-3)。Ti靶溅射功率230-280W，W靶溅射功率为80-100W，C靶溅射功率为0-120W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。

主权项

一种TiWCN硬质薄膜，其特征是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，C，N)，厚度在1‑3μm，当Ti靶溅射功率250W，W靶溅射功率90W，C靶溅射功率90W时，膜硬度高达35.97GPa，干切削实验下，磨损率为1.26×10^‑8mm³·N^‑1mm^‑1。