| 摘要 |
本发明提供一种按有效方式去除半导体装置制造过程中之化学机械抛光(CMP)过程的排水等的含有唑系铜用防蚀剂之水中的唑系铜用防蚀剂之方法。对含有唑系铜用防蚀剂之水中添加亚铁离子，并分离所生成之不溶性的铁．唑系错合物。经分离不溶性的铁．唑系错合物后，进行所残留之TOC成分之臭氧分解。藉由亚铁离子，而将唑系铜用防蚀剂作成铁．唑系错合物并使其按有效方式不溶化，即可实施凝聚．固-液分离处理。由于经去除因亚铁离子之添加所生成之不溶化物后的排水，系不仅唑系铜用防蚀剂，亦为已经去除悬浮物质者之故，当进行利用臭氧之加速氧化分解处理时，可防止臭氧的无谓的耗费，而以少量的臭氧注入量即高度分解去除所残留之含有唑系铜用防蚀剂之TOC成分。 |
