发明名称 |
电晶体的操作方法 |
摘要 |
一种电晶体的操作方法,适用于电晶体,电晶体包含第一闸极、第一闸极绝缘层、半导体主动层、源极、汲极、第二闸极绝缘层以及第二闸极,电晶体的操作方法包含:可将第一闸极与源极接地,施加负偏压至第二闸极并施加正偏压至汲极,以使电晶体作为光侦测器;另一方面,可将源极接地,第二闸极接地或浮接(floating),施加偏压至第一闸极并施加正偏压至汲极,以使电晶体作为画素电晶体。 |
申请公布号 |
TWI458112 |
申请公布日期 |
2014.10.21 |
申请号 |
TW101100157 |
申请日期 |
2012.01.03 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |
发明人 |
张鼎张;陈德智;简富彦;谢天宇 |
分类号 |
H01L31/113;H01L29/78 |
主分类号 |
H01L31/113 |
代理机构 |
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代理人 |
林坤成 台北市信义区松德路171号2楼;刘纪盛 台北市信义区松德路171号2楼;谢金原 台北市信义区松德路171号2楼 |
主权项 |
一种电晶体的操作方法,适用于一电晶体,该电晶体包含一第一闸极、一第一闸极绝缘层、一半导体主动层、一源极、一汲极、一第二闸极绝缘层以及一第二闸极,其中该第一闸极绝缘层位于该第一闸极上,该半导体主动层位于该第一闸极绝缘层上,该源极与该汲极相互分离地位于该半导体主动层的两侧上,该第二闸极绝缘层位于该半导体主动层上,该第二闸极位于该第二闸极绝缘层上,该电晶体的操作方法,包含:将该第一闸极与该源极接地;以及施加负偏压至该第二闸极并施加正偏压至该汲极,在照光环境下,以使该电晶体作为一光侦测器,其中该第二闸极为一透明闸极。 |
地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号 |