发明名称 |
薄膜电晶体 |
摘要 |
一种薄膜电晶体,适于配置于基板上,此薄膜电晶体包括闸极、闸绝缘层、富矽通道层、源极与汲极。闸极配置于基板上。闸绝缘层配置于基板上以覆盖闸极。富矽通道层配置于闸极上方,其中富矽通道层之材料选自于由富矽氧化矽、富矽氮化矽、富矽氮氧化矽、富矽碳化矽与富矽碳氧化矽所组成之族群,且该富矽通道层之膜层深度在10奈米(nanometers,nm)至170nm中之矽含量介于1E23atoms/cm3至4E23atoms/cm3之间。源极与汲极分别与富矽通道层连接。 |
申请公布号 |
TWI458098 |
申请公布日期 |
2014.10.21 |
申请号 |
TW098146361 |
申请日期 |
2009.12.31 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |
发明人 |
卓恩宗;刘婉懿;陈佳楷;林武雄;陈俊雄;黄伟明 |
分类号 |
H01L29/786;H01L21/314 |
主分类号 |
H01L29/786 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种薄膜电晶体,适于配置于一基板上,该薄膜电晶体包括:一闸极,配置于该基板上;一闸绝缘层,配置于该基板上以覆盖该闸极;一富矽通道层,配置于该闸极上方,其中该富矽通道层之材料为富矽氮氧化矽,且该富矽通道层之膜层深度在15奈米(nanometers,nm)至170nm中的矽含量介于1E23atoms/cm3至4E23atoms/cm3之间;以及一源极与一汲极,分别与该富矽通道层连接。 |
地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |