多重荷电粒子束描绘装置及多重荷电粒子束描绘方法

摘要

〔目的〕提供一种：对由于起因于光学系之歪变等而产生的多重束之照射位置的偏离所导致之图案形状或尺寸的变动作抑制之描绘装置。;〔构成〕描绘装置(100)，其特征为，系具备有：光圈构件(203)，其系具备有复数之孔，并藉由使电子束之一部分分别通过复数之孔，而形成多重束；和遮没平板(204)，系进行通过了光圈构件之复数的开口部之多重束中之各别所相对应的束之遮没偏向；和描绘处理控制部(18)，系以使通过了复数之孔中的互为相异之孔后的复数之束彼此在试料上作并排的方式，来对于描绘处理作控制；和击射间隔调整部(19)，系当在试料上而并排之各束的击射间隔会依存于场所而有所相异的情况时，以使最大击射间隔成为被规定于特定之量子化尺寸或者是被规定于从特定之量子化尺寸起之特定的范围内之控制栅间隔以下的方式，来对于击射间隔作调整。

主权项

一种多重荷电粒子束描绘装置，其特征为，具备有：平台，系载置试料，并可连续移动；和放出部，系放出荷电粒子束；和光圈构件，系具备有复数之开口部，并在包含有前述复数之开口部全体的区域处而接受前述荷电粒子束之照射，而藉由使前述荷电粒子束之一部分分别通过前述复数之开口部，而形成多重束；和复数之遮没器，系进行通过了前述光圈构件之复数的开口部之多重束中之各别所相对应的束之遮没偏向；和遮没光圈构件，系将藉由前述复数之遮没器而以成为束off之状态的方式来作了偏向之各束作遮没；和偏向器，系使通过了前述遮没光圈构件之各束，整批地偏向至通过了前述遮没光圈构件之各束的在前述试料上之各别的照射位置处；和描绘处理控制部，系以使通过了复数之开口部中的互为相异之开口部后的复数之束彼此在试料上作并排的方式，来对于描绘处理作控制；和击射间隔调整部，系当在试料上而并排之各束的击射间隔会依存于场所而有所相异的情况时，以使最大击射间隔成为被规定于特定之量子化尺寸或者是被规定于从特定之量子化尺寸起之特定的范围内之控制栅间隔以下的方式，来对于击射间隔作调整。