发明名称 膜形状取得装置及膜形状取得方法
摘要 于膜形状取得装置(1)中,在形成于上表面(871)上具有复数个纹理凸部(870)之基板(9)上之矽膜(86)的光学模型(8)中,设定有与复数个纹理凸部(870)一致之薄膜凹部(865)、及位于其上方之薄膜凸部(860)。而且,以有效膜厚表现表示薄膜凸部(860)、薄膜凹部(865)、及薄膜凸部(860)与薄膜凹部(865)之间之中间部之形状的参数群所包含之各参数,并藉由变更有效膜厚变更各参数之值而进行理论光谱之对于测定光谱之拟合。藉此,可容易且高精度地取得矽膜(86)之形状。
申请公布号 TWI457536 申请公布日期 2014.10.21
申请号 TW100140657 申请日期 2011.11.08
申请人 大日本网屏制造股份有限公司 日本 发明人 藤原裕之;山口真二;杉本克雄
分类号 G01B11/30;H01L21/66;H01L31/18 主分类号 G01B11/30
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种膜形状取得装置,其系取得形成于对象物之具有纹理构造之上表面上之薄膜的形状者,其具备有:分光椭圆仪;及运算部,其对于藉由利用上述分光椭圆仪对上述薄膜进行测定所取得之测定光谱,藉由变更表现上述薄膜之形状之参数群的值,进行自上述薄膜之光学模型所求出理论光谱之拟合,而求出作为上述薄膜之平均膜厚之有效膜厚及上述参数群之值;于上述薄膜之上述光学模型中,在上述薄膜之上表面即膜上表面,设定有与上述对象物之上述上表面之复数个纹理凸部对应的复数个薄膜凸部,而于上述薄膜之下表面即膜下表面,设定有与上述复数个纹理凸部对应之复数个薄膜凹部,上述复数个纹理凸部具备有以既定之比例所分布之复数种凸部,将上述对象物之上述上表面,分割成分别具备有上述复数个纹理凸部之复数个单位区域时的各单位区域中之上述薄膜之形状,系对应于上述复数种凸部而具有复数种形状,上述参数群包含上述各单位区域中之上述薄膜凸部之上下方向之高度、与上述薄膜凸部之曲率对应之系数、上述薄膜凸部之上端部之体积分率、上述薄膜凹部之上下方向之高度、与上述薄膜凹部之曲率对应之系数、上述薄膜凹部之上端部之体积分率、及上述薄膜凸部之下端与上述薄膜凹部之上端之间之上下方向的距离中之至少2个参数,上述至少2个参数系藉由上述有效膜厚进行表现,于上述拟合时,藉由变更上述有效膜厚,而变更上述至少2个参数。
地址 日本