| 发明名称 |
基材处理设备 |
| 摘要 |
本文所揭示的是一种基材处理设备。在腔室的外侧(大气)与内侧(真空状态)提供天线。提供在腔室外侧的天线位于腔室的部分。提供在腔室内侧的天线位于邻近腔室壁处。因此，形成在腔室中的电浆密度可增加并均匀分布在腔室的整个区域，因而增进处理基材的效率。 |
| 申请公布号 |
TWI458012 |
申请公布日期 |
2014.10.21 |
| 申请号 |
TW099146968 |
申请日期 |
2010.12.30 |
| 申请人 |
丽佳达普股份有限公司 南韩 |
发明人 |
孙亨圭 |
| 分类号 |
H01L21/3065;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
| 主权项 |
一种基材处理设备，包含：一腔室，在其中处理一基材的一表面；一第一天线，其提供在该腔室的外侧，该腔室具有一视窗，其设置于该腔室内且在该腔室与该第一天线之间；以及一第二天线，其提供在该腔室的内侧，该第二天线围绕着该第一天线提供于其中的一部分。 |
| 地址 |
南韩 |
