光罩基底、光罩及其制造方法

摘要

本发明系一种光罩基底，其系用以制作于透光性基板上设有对于透射之曝光之光产生特定相位差之相偏移部的相偏移光罩者。上述相偏移部系以对于透射未设有相偏移部之部分之透光性基板的曝光之光产生特定相位差之刻蚀深度，自上述透光性基板之表面刻蚀而成之刻蚀部；于刻蚀上述透光性基板之侧之表面上包含：蚀刻遮罩膜，其系由可利用氯系气体乾式蚀刻、而无法利用氟系气体乾式蚀刻之材料所形成，于藉由乾式蚀刻而形成上述刻蚀部时至少到达上述刻蚀深度为止，发挥作为蚀刻遮罩之功能者；及遮光膜，其系于该蚀刻遮罩膜之表面上由以钽为主成分之材料所形成，并具有于形成透光性基板之刻蚀部之乾式蚀刻时可去除之膜厚。

主权项

一种光罩基底，其特征在于：其系用以制作于透光性基板上设有对于透射之曝光之光产生特定相位差之相偏移部的相偏移光罩者，且上述相偏移部系以对于透射未设有相偏移部之部分之上述透光性基板之曝光之光产生特定相位差之刻蚀深度，自上述透光性基板之表面刻蚀而成之刻蚀部；于刻蚀上述透光性基板之侧之表面上包含：蚀刻遮罩膜，其系由可利用氯系气体乾式蚀刻、而无法利用氟系气体乾式蚀刻之材料所形成，于藉由乾式蚀刻而形成上述刻蚀部时至少到达上述刻蚀深度为止，发挥作为蚀刻遮罩之功能者；及遮光膜，其系于该蚀刻遮罩膜之表面上由以钽为主成分之材料所形成，并具有于形成上述透光性基板之上述刻蚀部之乾式蚀刻时可去除之膜厚。